シリコンは酸素に次いで地殻中に豊富にある元素です。通常酸素と結びついていて、シリカあるいはケイ酸塩として存在するために、昔はシリカが元素であると考えられていました。金属シリコンの歴史は、1842年に単体分離が成功してから始まり、現在広く利用されていますが、半導体材料として本格的に利用されるようになったのは、1960年代からです。

　金属シリコンを半導体材料として利用するためには、不純物を取り除き、その純度を限りなく高める必要があります。純度98%程度の金属シリコンを塩化水素（ＨＣＩ）と反応させ、液体の三塩化シランを作り、これを蒸留により高純度（純度99.999999999%、イレブン・ナインとよばれています。）に精製した後、水素で還元して多結晶シリコンを製造する方法が一般に広く使用されています。

　多結晶シリコンはそのままでは半導体材料として使用することはできませんので、溶解して原子を規則正しく配列した単結晶シリコンを製造します。単結晶を製造する段階でごく微量の金属（一般には不純物と呼んでいます。）を入れます。不純物の金属の種類によりＮ型半導体あるいはＰ型半導体になります。Ｎ型の不純物としてはリン、アンチモン、Ｐ型の不純物としてはボロンが一般的に使用されています。単結晶の直径は１５０ｍｍ、２００ｍｍのものが主流ですが、最近では３００ｍｍのものも使用され始めています。単結晶シリコンは厚さ1mm以下に切断して、ラッピング・エッチング・ポリッシングという工程を経て、表面が鏡のようになるまで研磨して高純度単結晶シリコンウエーハが出来上がります。さらに用途によってはエピタキシャル成長など処理が施されます。最近ではデバイスの高速化、高信頼性化、低消費電力化等の要請に応えるため為、各種のＳＯＩ（Ｓｉｌｉｃｏｎ　Ｏｎ　Ｉｎｓｕｌａｔｅｒ）ウエーハも実用段階に入っています。

　半導体製品は、テレビ、ステレオ、エアコン、洗濯機、冷蔵庫、携帯電話等の家庭電子機器、コンピュータ、パソコン、データ端末・記憶装置、ＦＡＸ、複写機等のオフィス情報関連機器、カメラ、電子楽器、ファミコン、テレビゲーム、玩具等ビジュアル関連機器を始めとして、医療用各種電子機器、工業用各種電子機器等私たちの生活のあらゆる分野で利用されています。